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沈阳芯源“湿法处理技术研发”项目荣获辽宁省科技进步二等奖

日期:2017年3月8日 11:33

    2016年度辽宁省科学技术奖经过评审,我公司自主研发的集成电路凸点封装工艺单晶圆湿法处理设备(单片湿法刻蚀机、单片湿法去胶机、单片清洗机)荣获辽宁省科技进步二等奖。

       “科学技术进步奖”是国家为了促进科学技术进步,发挥科学技术第一生产力的作用,推动科学技术为经济建设服务,对在科学探索和技术创新中做出贡献的单位和个人颁发的一种带政策、法律性的奖励。

         此次先进封装专用单晶圆湿法处理三类整机设备荣获辽宁省科技进步二等奖,表明了我公司不仅仅是国内唯一一家可以提供中高端喷涂胶显影设备的企业,在先进封装单片湿法处理设备技术创新能力方面也获得了行业专家和市场客户的充分认可,也体现了我公司雄厚的研发实力,坚定了公司进一步加大产品研发创新的信心。

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