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  • 产品名称: KS-M175S-1CL半自动MASK清洗机
  • 基片尺寸: 3”,5”,7”
  • 适用材料: 有机玻璃
  • 适用工艺: 传感器芯片制造 /光通信芯片制造/功率芯片制造/LED芯片制造/图形化衬底制造

 适用3”,5”,7”标准光刻板表面刷洗工艺

1. 设计精巧,手动上下片自动完成清洗。

2. 工艺单元灵活选配,配备高压水、常压水、毛刷、超声清洗等单元,有效去除残留光刻胶及0.5um以上Particle

3. 人机交互接口,操作灵活,维护方便。

基片尺寸:75mm*75mmmm175mm*175mm

常压清洗液:有机溶剂/ 碱性清洗剂

高压清洗液:DI

刷子材料:动物毛/ 尼龙/ PVA
主轴转速:Max.2,000rpm

可选单元:表面活性剂处理,超声清洗
外型尺寸:W900×D700×H1700 (mm)

半导体照明LED,微机电系统,光通信,功率半导体