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  • 产品名称: KS-S100-2D/3D 显影机
  • 基片尺寸: 2”,4”,6”
  • 适用材料: 蓝宝石/硅/砷化镓 / 二氧化硅 / 锗 / 陶瓷/砷化镓 / 碳化硅/ 氮化镓
  • 适用工艺: 传感器芯片制造 /光通信芯片制造/功率芯片制造/LED芯片制造/图形化衬底制造

 适用2”,4”,6”标准圆形基片显影工艺。

1.整机采用框架结构,主要由盒站单元、传片单元、显影单元、热处理单元、冷盘恒温单元、控制系统、显影液供应系统及排液系统等组成。

2.工作方式为自动完成显影工艺加工过程。

基片尺寸:Ф150mm
显影液:正胶显影液(弱碱性)/ 正胶显影液(有机类)
主轴转速:Max.6,000rpm
度:Max.50,000rpm/s
显影单元:Max.2个独立滴液嘴 
热盘单元:50-180℃ 
冷盘单元:18-28
可选单元:FFUTHCBSR etc.
外型尺寸:H1400×W1400×D1800 (mm)

半导体照明LED,微机电系统,光通信,功率半导体