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  • 产品描述:   用于前道300mm规模生产线,满足90nm光刻的涂胶显影工艺。  1.堆叠式结构,容纳spin单元数量最大为12,包括6个涂胶单元和6个显影单元。容纳热盘塔数量最大为6,容纳热处理单元数量最大为40。每个涂胶单元最多可以容纳8种光刻胶。  2.最高产能达到150WPH。  3.小占地面积,高可靠性,高稳定性,易于维护,低CoO。  4.客制化开发。 
  • 产品描述:  适用用于前道300mm规模生产线 。满足90nm光刻的涂胶显影工艺。1.堆叠式结构,容纳spin单元数量最大为4,包括2个涂胶单元和2个显影单元。容纳热盘塔数量最大为2,容纳热处理单元数量最大为16。每个涂胶单元最多可以容纳4种光刻胶。2.最高产能达到80WPH。3.小占地面积,高可靠性,高稳定性,易于维护,低CoO。4.客制化开发。
  • 产品描述: 适用用于前道200mm规模生产线 。满足0.18μm光刻的涂胶显影工艺。1.堆叠式结构,容纳spin单元数量最大为4,包括2个涂胶单元和2个显影单元。容纳热盘塔数量最大为2,容纳热处理单元数量最大为16。每个涂胶单元最多可以容纳4种光刻胶。2.最高产能达到80WPH。3.小占地面积,高可靠性,高稳定性,易于维护,低CoO。   4.客制化开发。
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